填补国产ArF光刻胶空白 这家公司历时3年做到了！

日前，彤程新材（603650）发布公告称，全资子公司上海彤程电子材料有限公司（简称“彤程电子”）投资建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目已竣工，目前已逐步进入试生产阶段。

 

这意味着什么？

 

中泰证券针对彤程新材发布了《上海光刻胶工厂已竣工，ArF 光刻胶填补国产空白》的个股研究报告。其给出了“全面布局半导体光刻胶，有望引领国产替代浪潮”的评价，并且认为，“大陆光刻胶市场快速增长，看好中高端光刻胶国产替代。”

 

ArF光刻胶是主流需求

 

目前半导体用光刻胶，主要分为5个种类：g线光刻胶，i线光刻胶，KrF光刻胶，ArF光刻胶和EUV光刻胶。“g线、i线、ArF、KrF”等是光刻胶不同产品类型的名称，无需对此做过多深究，只需分清名称并了解它们相对用于晶圆上的技术水平即可。如下图所示，通常来说，波长越短，加工分辨率越佳。

 

 

因为当前主流制程工艺是用于8寸和12寸晶圆片，所以，ArF光刻胶是市场需求的主流，占比约42%；KrF则多用于8寸晶圆片，占比约22%。

 

那么，彤程新材的光刻胶水平如何呢？在上述公告中，彤程新材透露了其实力：

 

“在ArF光刻胶产品方面，公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发，首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品，已具备量产能力，目前处于量产前的光刻工艺测试及产品验证阶段，能否验证通过尚存在一定的不确定性。产能可同时供应国内大部分芯片制造商，能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。

 

目前，公司G线光刻胶已经占据国内较大的市场份额；I线光刻胶已广泛应用于国内 6"、8"、12"集成电路产线，支持的工艺制程涵盖14nm及以上工艺。KrF光刻胶量产品种达20种以上，稳定供应国内头部芯片制造商。”

 

其他6家国产公司进展

 

从全球半导体光刻胶供应情况来看，市场高度集中，核心技术掌握在日、美等国际大公司手中，日本的JSR、东京应化、信越化学及富士胶片四家企业占据了全球70%以上的市场份额，处于市场垄断地位。在全球半导体光刻胶市场上，日本企业处于绝对垄断地位。

 

根据SEMI，2022年全球光刻胶市场规模达26.4亿美元，较上年增长6.82%。其中中国大陆市场依旧保持着全球最快的增速，达到5.93亿美元，较上年增长20.47%。尽管国内光刻胶市场保持了良好的增长趋势，但在KrF、ArF领域国内市场份额仍然较小。我国高端光刻胶的自给率较低仍然是现状。

 

10月11日消息，容大感光在互动平台表示，日本是全世界高端光刻胶供应的主要产地，日本经济产业省公布外汇法法令修正案后，其部分高端光刻胶对华出口需申请许可证，国内使用光刻胶的半导体制造企业将会受到一定程度的影响；将加速国产光刻胶替代进口的进程，对国内光刻胶企业将会是一次很好的国产替代的机遇。

 

那么，到底谁能把握住这次机遇呢？

 

目前，除过彤程新材外，国内从事半导体光刻胶研发和生产的企业主要有晶瑞电材、南大光电、上海新阳、北京科华、容大感光、徐州博康等。荣格电子芯片初步梳理了这几家光刻胶公司的最新进展：

 

01

晶瑞电材：引入中石化资本8.5亿资金

 

晶瑞电材11月1日晚间公告，控股子公司瑞红苏州因经营发展需要，拟通过定增引入战略投资者中国石化集团资本有限公司（简称：中石化资本），募集资金8.5亿元，将用于瑞红苏州先进制程工艺半导体光刻胶及配套试剂业务的研发、采购、生产和销售及相关投资。

 

02

容大感光：krf光刻胶尚未实现销售

 

有投资者在投资者互动平台提问：公司最先进的krf光刻胶，产值多少，主要用户是谁?

 

容大感光10月23日在投资者互动平台表示，截止目前，公司尚未实现该产品的销售。

 

03

徐州博康：具备干湿法ArF光刻胶技术能力

 

在9月25日的2023北京微电子国际研讨会暨IC WORLD大会上，徐州博康信息化学品有限公司博康光刻胶事业部总经理杜光宇接受集微网采访表示：“目前面向先进工艺节点的光刻胶，相比国外还有一些差距。特别突出的是国外已量产的EUV光刻胶，用于5nm和3nm产品，因为国内也没有相应产线，国内最高还停留在ArF光刻胶。”

 

并且他透露，徐州博康已成功开发ArF/KrF单体及光刻胶、I线光刻胶、封装光刻胶、电子束光刻胶等系列产品。具备干法ArF及湿法ArF光刻胶的技术能力，干法ArF可应用于90nm/65nm/55nm节点。湿法ArF可应用于40nm/28nm节点，在现有技术产品基础上积极开发14nm及以下工艺节点应用的更先进的湿法ArF光刻胶材料。

 

04

南大光电：两款ArF光刻胶通过客户验证

 

根据10月13日《投资快报》报道，2016年-2023年间南大光电自主研发生产的高壁垒半导体前驱体和ArF光刻胶产品陆续落地。ArF光刻胶方面，国产化率低、进口受限，南大光电产研进程领先，两款产品通过客户验证，并已有少量订单，规划实现年产能25吨。

 

05

北京科华：已经进入下游头部客户

 

9月22日，高盟新材在互动平台表示，北京科华拥有ASML光刻机，也已经量产半导体光刻胶，且其半导体光刻胶也已经进入下游头部客户。

 

06

上海新阳：还未供货 规划年产能500余吨

 

有投资者在投资者互动平台提问：请问公司目前量产的最最先进的光刻胶是什么型号？主要供哪些客户用于多少纳米制成？在验证的arf光刻胶是干法还是湿法？究竟arf干法还是湿法已经供货呢？谢谢

 

上海新阳9月18日在投资者互动平台表示，公司ArF光刻胶还未供货，相关品类光刻胶都还在国内晶圆制造客户验证中。同日，其披露公司本部规划光刻胶年产能500余吨。